校企登录
平台首页
活动信息
科研成果
科技人才
科研设备
创业创新
企业需求
科研成果需求
科技人才需求
科研设备需求
政策文件
您现在的位置:
首页
科研成果
专利
科研成果
专利
发布日期:2024年11月05日
浏览次数:60
打印
与其他电离层投影函数相比,该电离层投影函数可顾及不同太阳活动期的电离层梯度变化,使其能更好的表征电离层投影误差的变化。在不同太阳活动期,进行单频精密单点定位时,其精度可提高至少13%。同时,该投影函数具有编程简便等优点,能更好的应用于生产实际。
专利名称:一种顾及方位角的电离层投影函数模型的建模方法
专利类型:发明专利
专利号:CN202111236690.7
专利申请日期:0000-00-00
联系人:陈军
联系电话:18760201306
上一主题:农业气象灾害遥感定量监测专利
下一主题:(横向项目)基于人工智能的物联网家居系统的开发研究