科研成果

专利

发布日期:2024年11月05日浏览次数:60 打印

与其他电离层投影函数相比,该电离层投影函数可顾及不同太阳活动期的电离层梯度变化,使其能更好的表征电离层投影误差的变化。在不同太阳活动期,进行单频精密单点定位时,其精度可提高至少13%。同时,该投影函数具有编程简便等优点,能更好的应用于生产实际。

专利名称:一种顾及方位角的电离层投影函数模型的建模方法

专利类型:发明专利

专利号:CN202111236690.7

专利申请日期:0000-00-00

联系人:陈军

联系电话:18760201306